《炬丰科技-半导体工艺》 PECVD表面动力学研究

书籍:《炬丰科技-半导体工艺》

文章:PECVD表面动力学研究

编号:JFKJ-21-226

作者:炬丰科技

摘要

本研究工作的范围是描述变压器耦合环形等离子体的特性;了解清洗过程中中性的气相反应和表面反应 ,通过分析中性点在下游清洗工艺室中的浓度,并建立一个全球模型来预测清洁过程中活跃物种的分压室(www.zdbc.com.cn)。最终的目标是建立一个最佳的清洗过程使用的结果 。

集成电路

集成电路是由一系列步骤组成的电路 ,同时建立晶体管,电容器,二极管,电阻,电线等组成电路。晶体管是集成电路中的关键元件。晶体管是一种开关由隔离控制终端关闭和打开,表示数字0和1状态。

交叉秒半导体制造MOS晶体管的加工

等离子刻蚀

远程等离子体处理的原位室清洗

主营产品:风机,工业空调